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但其耐磨性能不能滿足壽命要求，如何提高鈦合金花鍵表面的耐磨性？引用了主要有碳基涂層(如類金剛石DLC)，DLC涂層采用磁控濺射與PECVD相結(jié)合的方式，沉積DLC2(a-C:H）涂層和DLC（ta-c）涂層。DLC的硬度在2500HV，摩擦系數(shù)0.04，DLC涂層的硬度高達6000HV，摩擦系數(shù)0.1，利用DLC真空鍍膜技術在花鍵軸表面沉積硬質(zhì)耐磨涂層是解決鈦合金花鍵表面耐磨性能不足的有效途徑之一。

目前涂層種類非常豐富，由于類金剛石碳DLC具有與金剛石相似的高硬度和優(yōu)越的機械性能，同時也具備低摩擦系數(shù)和良好的化學惰性。DLC鍍膜應用涵蓋了刀具和模具的表面硬化處理，集成電路的絕緣層與保護層，醫(yī)療器械的生物相容性涂層，以及發(fā)動機部件的減摩處理等，因為應用非常廣泛，得到了市場熱捧。

東莞納隆納米涂層為DLC/PVD真空鍍的生產(chǎn)、研發(fā)、集銷售為一體的高新科技生產(chǎn)加工型企業(yè)，可完成你所需要的單層及復合涂層，納隆是引入德國涂層技術企業(yè)，本公司的技術早已克服了目前國內(nèi)很多研究機構(gòu)及涂層廠商的DLC無法工業(yè)化的瓶頸，納隆公司的高性能膜層主要提升工件耐磨、耐浸蝕/防磨損、摩擦系數(shù)低、耐腐蝕、導電等性能。主營涂層種類：DLC, TiN氮化鈦,TiAlN, CrN,TiCN,AlCrN,TisiN等，目前解決半導體行業(yè)的陶瓷件可采用氮化鈦涂層以及CrN涂層實現(xiàn)陶瓷件的導電性能。

氮化鋁鈦(TiAlN)由于鉻（Cr）元素的引入，使得氮碳化鋁鈦(TIAlN)的內(nèi)應力明顯減少,耐沖擊性能提升。同時涂層表面缺陷明顯減少，耐溫性也同時提高。AlCrN涂層具有優(yōu)良的熱穩(wěn)定性和耐腐蝕性，高硬度，高耐磨，高耐溫，低摩擦系數(shù)等，最高耐熱溫度可以達到1000℃，而且涂層的硬度也有所提高，最高可達3500HV。特別適用于高速干切削及高硬切削。針對鋁壓鑄模， AlCrN涂層能夠有效減少常見的腐蝕性和黏料情況。

DLC(類金剛石)涂層是一種較為常見的PVD涂層，和金剛石幾乎擁有一樣的特性。由于其具有高硬度和高彈性模量、低摩擦因數(shù)、耐磨損以及良好的真空摩擦學特性，很適合于作為耐磨涂層，因而其在眾多有耐磨性以及硬度要求的零件上得到廣泛應用。DLC工藝溫度通常在200攝氏度左右，甚至更低，（目前我們納隆最低可以在85度做真空電鍍），能夠處理大多數(shù)的汽車零件，DLC涂層細膩光滑，自潤滑性好，摩擦系數(shù)通常在0.1以下;硬度高，通常在Hv2200以上;尤其適合涂覆在汽車零件表面，承受頻繁持續(xù)的高強度摩擦磨損，起到提高零件使用性能、延長使用壽命的作用;另外，DLC最高可耐受350攝氏度，且耐腐蝕性好、化學穩(wěn)定性高、結(jié)構(gòu)致密能夠勝任發(fā)動機的內(nèi)部溫度和工作環(huán)境。

DLC 薄膜制備技術的研究開始于七十年代。1971年成功地利用碳離子束沉積出DLC薄膜以來，離子束沉積法是開始用于制備 DLC膜。其后研究者發(fā)現(xiàn)了一系列生成DLC薄膜的辦法。大多數(shù)能夠在氣相中沉積的薄膜材料也能在液相中通過電化學方法合成，反之亦然。給DLC薄膜的制備帶來了新的思路，現(xiàn)在除了常見的化學氣相沉積和物理氣相沉積(PVD)，?也可以通過液相的電化學沉積來制備DLC膜。

?DLC涂層具有一定的導電性能，但其導電性相對較差。DLC涂層的導電性主要取決于涂層內(nèi)部的碳元素結(jié)構(gòu)和配比，以及涂層的制備工藝。它是由非晶態(tài)碳組成，具有一定數(shù)量的雜質(zhì)和缺陷，這些雜質(zhì)和缺陷會影響涂層的導電性能。一般來說，DLC涂層的導電性能介于絕緣體和導體之間，DLC涂層的導電性能可以通過調(diào)整涂層的碳元素結(jié)構(gòu)、控制雜質(zhì)含量和選擇適當?shù)闹苽涔に嚨确椒▉磉M行調(diào)節(jié)和改善。

因此DLC涂層的硬度極高，其維氏硬度可達到2200-4000HV左右，超過了常見的鋼鐵等材料。這種硬度的提高主要歸功于DLC涂層的特殊結(jié)構(gòu)。在DLC涂層中，碳原子以特殊的排列方式結(jié)合，形成了類似于金剛石的晶體結(jié)構(gòu)。這種結(jié)構(gòu)使得DLC涂層具有極高的硬度和耐磨性，從而實現(xiàn)了表面加硬的效果。