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類金剛石涂層是是由PVD技術(shù)物理氣相沉積技術(shù)制備而成，工藝參數(shù)可以較為精確地控制。DLC技術(shù)制備類金剛石涂層時(shí)，往往采用磁控濺射或電弧離子鍍等方法，涂層厚度大多控制在1-5um之間。同時(shí)PVD技術(shù)還能制備一些復(fù)合涂層，如TiN/DLC、CrN/DLC等，這些復(fù)合涂層能進(jìn)一步提高摩擦學(xué)和耐磨性能。

薄膜的內(nèi)應(yīng)力和結(jié)合強(qiáng)度是決定薄膜的穩(wěn)定性和使用壽命，影響薄膜性能的兩個(gè)重要因素，內(nèi)應(yīng)力高和結(jié)合強(qiáng)度低的DLC膜容易在應(yīng)用中產(chǎn)生裂紋、褶皺，甚至脫落，所以制備的DLC膜最好具有適中的壓應(yīng)力和較高的結(jié)合強(qiáng)度。大部分研究表明，直接在基體上沉積的DLC膜的膜基結(jié)合強(qiáng)度一般比較低，通過采用Ti\TiN\TiCN\TiC中間梯度過渡層的方法提高DLC膜與基體的結(jié)合強(qiáng)度，在模具鋼上沉積DLC膜的結(jié)合強(qiáng)度達(dá)44N-74N，制備的膜導(dǎo)總體厚度可達(dá)5um。

DLC類金鋼石膜層是一種具有摩擦系數(shù)低、耐磨性高的固體潤(rùn)滑膜層，該膜的潤(rùn)滑是由于碳以石墨的微晶結(jié)構(gòu)存在于膜層中，大大的改善了摩擦和耐磨性能。常用的硬質(zhì)涂層在某些特殊領(lǐng)域的切削場(chǎng)合無法得以良好地應(yīng)用，在切削時(shí)容易出現(xiàn)沾粘刀具現(xiàn)象。高溫時(shí)更與刀具產(chǎn)生反應(yīng)造成加工困難，工具壽命短。像這類的刀具如鍍上類鉆膜后可解決問題。

DLC涂層是一種純碳膜，碳原子通過化合物或碳離子沉積在基體表面上，其有的非晶特性能夠?yàn)榛w提供良好的物理、化學(xué)性能。并使基體在環(huán)境下具有更加優(yōu)越的性能。DLC涂層的形成可以通過離子沉積、物理氣相沉積和化學(xué)氣相沉積等不同工藝進(jìn)行。由于不同的制備工藝，由于DLC為非晶質(zhì)純碳膜，其表面硬度高達(dá)2200-4000HV，含氫DLC則在純碳基礎(chǔ)上通過加入氫元素?cái)U(kuò)大了涂層的應(yīng)用范圍，提高了耐腐蝕性和生物相容性。

為改善金屬材料的磨損腐蝕行為，在摩擦學(xué)領(lǐng)域，新型潤(rùn)滑材料的開發(fā)也是減小摩擦磨損的重要途徑，包括固體潤(rùn)滑薄膜，液體潤(rùn)滑劑及固-液協(xié)同潤(rùn)滑體系。近年來，由于碳基材料的優(yōu)異性能，碳基固體潤(rùn)滑涂層及碳基材料潤(rùn)滑添加劑的相關(guān)材料備受青睞，其中較為典型的固體潤(rùn)滑涂層有類金剛石薄膜DLC。

DLC類金剛石(鍍鈦)涂層是一種在微觀結(jié)構(gòu)上含有金剛石成分的涂層。構(gòu)成D的元素為碳。碳原子和碳原子之間的不同結(jié)合方式，使其產(chǎn)生不同的物質(zhì):金剛石碳碳以sp3健的形式結(jié)合;類金剛石(DLC)-碳碳以sp3和sp2健的形式結(jié)合:石墨(Graphite)-碳碳以sp2健的形式結(jié)合。提到dlc涂層，如果是沒有觸摸過這個(gè)行業(yè)的人，可能對(duì)這個(gè)是十分生疏的，其實(shí)dc是類金剛石涂層，它一般都是通過兩種方法來完成的，一種是PVD，通常是黑色的，而且具有十分好的耐磨性和防滑性。

類金剛石是一種功能非常突出的具有低摩擦自潤(rùn)滑功能的涂層。因此開發(fā)DLC薄膜在無油縫紉機(jī)零部件上的應(yīng)用將會(huì)產(chǎn)生優(yōu)異的工作效率。DLC薄膜是采用離子?xùn)|源和磁控濺射源的混合技術(shù)在縫紉機(jī)針桿上成功進(jìn)行了類金剛石薄膜處理，也測(cè)量了其硬度、結(jié)合力、摩擦系數(shù)，通過劃痕法的結(jié)果表明發(fā)現(xiàn)，DLC 膜的硬度也得到了提高，縫紉機(jī)針桿的摩擦系數(shù)均在0.1 以下，可以極大地改善不銹鋼針桿的摩擦性能。

?類金剛石膜是以石墨或碳?xì)浠衔锏葹樵希诘蜏氐蛪合氯斯ず铣傻囊环N含有SP3和SP2鍵的非晶碳膜。由于其具有一系列與金剛石相接近的優(yōu)良性能和結(jié)構(gòu)特征，國(guó)內(nèi)外科技工作者對(duì)DLC膜的制備工藝、結(jié)構(gòu)形態(tài)、物理測(cè)定、應(yīng)用開拓和專業(yè)化生產(chǎn)等方面進(jìn)行了廣泛的研究,采用陽極型氣體離子源結(jié)合非平衡磁控濺射復(fù)合技術(shù)的方法，制備Cr過渡層的DLC/wcc薄膜，并對(duì)其膜層性能、界面、結(jié)構(gòu)及成分分布等進(jìn)行了分析，以期為制備優(yōu)質(zhì)的DLC膜積累有用的特性數(shù)據(jù)。