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物理氣相沉積(PVD) 是一種薄膜制備技術(shù)，可在真空條件下將材料源（固體或液體）表面物理汽化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子。然后，通過低壓氣體（或等離子體）在基板表面沉積具有特定功能的膜。物理氣相沉積的主要方法有真空蒸鍍、濺射沉積、電弧等離子鍍、離子鍍等。PVD薄膜沉積速度快、附著力強(qiáng)、衍射性能好、應(yīng)用范圍廣。

DLC主要采用PVD或PACVD工藝，在100℃~300℃的溫度下合成，具有良好的耐磨性、潤(rùn)滑性，且具有電氣絕緣、化學(xué)穩(wěn)定性和光透性。鍍膜可覆蓋鐵或非鐵金屬及塑料、陶瓷。主要碳素涂層根據(jù)氫含量和原子間的結(jié)合構(gòu)造分為DLC(a-C:H)、ta-C和Diamond涂層。

那么PVD涂層與DLC涂層有哪些區(qū)別呢？今天納隆小編就從三個(gè)維度為大家分析。

1. 不同涂層材料：PVD（Physical Vapor Deposition，物理氣相沉積）涂層通常使用金屬材料以及一些金屬化合物作為涂層材料，較常見的有氮化物、氧化物、碳化物等材料。而DLC（Diamond-Like Carbon，類金鉆碳）涂層則是由一層類似于天然金剛石結(jié)構(gòu)的碳膜組成。

2. 涂層硬度不同：PVD涂層硬度大多在1000-4000HV之間，DLC涂層硬度一般為2000HV-9000HV以上，具有更好的耐磨性、抗腐蝕性和潤(rùn)滑性。

3.膜層的特性有所不同，PVD鍍膜后的膜層，具有耐磨損，耐腐蝕，顏色亮麗多樣，導(dǎo)電、絕緣等特性，DCL(膜層和PVD鍍膜相比，DLC膜層的硬度更高，摩擦系數(shù)更低，更耐腐蝕，環(huán)保且抗粘附性更好。

4.用途有所不同，PVD鍍膜廣泛應(yīng)用于數(shù)碼產(chǎn)品、飾品、手表、智能穿戴產(chǎn)品、醫(yī)療器械、半導(dǎo)體、消費(fèi)類電子產(chǎn)品等領(lǐng)域，而DLC廣泛應(yīng)用于機(jī)械功能領(lǐng)域，比如鉆頭、銑刀、模具及其輔助模具、剪刀、軸承、等領(lǐng)域。

5.涂層制備方法不同,PVD鍍: PVD鍍的方法有，真空蒸鍍、濺射鍍膜、電弧等離子體鍍、離子鍍膜，及分子束外延等,DLC: DLC的方法有真空蒸發(fā)、濺射、等離子體輔助化學(xué)氣相沉積、離子注入等。